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In-situ UV Analysis

Temperature Analysis (Diffuse Reflection)

In-situ UV – Temperature Analysis (Reflection)

In-situ UV Temperature Analysis는 고온 환경 하에서 시료의 반사형 UV-Vis 스펙트럼을 실시간으로 측정하는 분석 방식입니다.

PIKE TechnologiesUV-Vis DiffusIR는 -150 °C에서 1000 °C까지 제어 가능한 환경 챔버를 탑재할 수 있으며, 세라믹 샘플 컵과 반응 가스 주입을 통해 다양한 고온 반응 조건에서 분석을 수행할 수 있습니다.

또한 Harrick ScientificHigh Temperature Praying Mantis는 최대 910 °C, 최대 3.44 MPa 조건에서 사용 가능하며, 고진공 및 고온에서도 안정적인 난반사 측정을 지원합니다.

이 두 액세서리는 JASCO UV-Vis 장비와 완벽 호환되며, 고온 촉매 반응, 산화/환원 반응, 광촉매 반응 등 Operando 조건의 정밀 실시간 분석에 최적화되어 있습니다.

Temperature Reflection Accessory Models
Reflection Accessory Models for In-situ UV
Accessory Model 주요 특징 및 용도
PIKE UV-Vis DiffusIR (HTV / LTV) -150 °C ~ 1000 °C 온도 범위의 환경 챔버(HTV / LTV) 탑재 가능
TempPRO 소프트웨어를 통한 제어, 가스 흐름 및 진공 조건 지원
세라믹 샘플 컵으로 촉매 반응 및 광반응 실험에 최적화
Harrick High Temp Praying Mantis 최대 910 °C, 3.44 MPa 조건까지 분석 가능
고진공(10⁻⁶ torr) 및 고온에서도 안정적인 반사형 측정
UV-Vis-NIR 영역을 위한 SiO₂ 윈도우, 광학 Window 포함
LIST

약관

약관내용